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  • 半導體產業背後的故事
  • 點閱:103
  • 作者: 張汝京著
  • 出版社:清華大學出版社
  • 出版年:2013[民102]
  • ISBN:9787302310532
  • 格式:JPG
  • 附註:簡體字版
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遴選了半導體產業發展歷史中重要的27項技術發明加以介紹,並著重于技術發明過程背後的一些故事。全書分為27章,內容涉及晶體管、CMOS、集成電路技術、浸沒式光刻、干法刻蝕、LED技術、量子霍爾效應、顯微技術等。

  • 第 1 章 晶体管的发明(第1頁)
  • 第 2 章 集成电路的发明(第9頁)
  • 第 3 章 LCD 技术的发明(第16頁)
  • 第 4 章 CCD 和 CIS 技术的发明(第22頁)
  • 第 5 章 DRAM 技术的发明(第34頁)
  • 第 6 章 非易失性存储器(第42頁)
  • 第 7 章 半導体激光器的发明(第50頁)
  • 第 8 章 光纤发展背后的人物故事(第59頁)
  • 第 9 章 太阳能电池的发展史简介(第70頁)
  • 第 10 章 计算机技术与华人(第84頁)
  • 第 11 章 DLP 与 DMD 技术的发明(第99頁)
  • 第 12 章 等离子体刻蚀(第108頁)
  • 第 13 章 浸入式光刻技术(第115頁)
  • 第 14 章 新兴非挥发存储技术( NVM )(第120頁)
  • 第 15 章 短距离通信系统(第136頁)
  • 第 16 章 MEMS / NEMS(第147頁)
  • 第 17 章 LED 发光二极管的创新过程(第155頁)
  • 第 18 章 1+1>2:CMOS 器件的发明(第164頁)
  • 第 19 章 肖特基二极管 ─ 半导体技术的革新(第172頁)
  • 第 20 章 功率半导体器件和集成电路(第179頁)
  • 第 21 章 薄膜晶体管( TFT )(第191頁)
  • 第 22 章 量子霍耳效应(第200頁)
  • 第 23 章 微光显微镜(第206頁)
  • 第 24 章 分析显微镜(第210頁)
  • 第 25 章 分子束外延(第231頁)
  • 第 26 章 有机金属化学气相沉积(第238頁)
  • 第 27 章 纳米技术的发展及其应用(第247頁)
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單本電子書
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