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  • 化學吸附的量子力學繪景
  • 點閱:623
  • 作者: 張輝, 劉士陽, 張國英著
  • 出版社:科學出版社
  • 出版年:2004[民93]
  • ISBN:7-03-013539-3 ; 978-7-03-013539-1
  • 格式:PDF
  • 附註:簡體字版

內容簡介本書著重從微觀角度——即從量子力學的角度,較完整地介紹了化學吸附的全過程。從化學吸附的基本概念入手,介紹了化學吸附的各種宏觀物理量及目前常見的實驗手段和實驗過程;以量子力學為理論基礎,重點描述了不同襯底的表面態密度和局域態密度,并對其化學吸附的性質進行了有效分析;針對化學吸附模型的建立,給出各種數學處理的方法和計算機模擬的手段,并將這些模型和手段直接應用到各種實際的化學吸附系統之中,使理論形式更為具體,同時也可加深對理論的理解。從結構上,本書力求做到由淺入深、由表及里、由現象到本質,逐層深入地對化學吸附內容進行闡述,以符合廣大讀者的認知規律。本書可供高等院校表面物理、表面化學等專業的教師和研究生參考閱讀,尤其適用于從事化學吸附研究的科研人員。

  • 前言(第i頁)
  • 第一章 化学吸附的宏观物理量及实验过程(第1頁)
    • §1 . 1 化学吸附的基本概念(第1頁)
    • §1 . 2 表面分析概述(第15頁)
    • §1 . 3 电子衍射及应用(第17頁)
    • §1 . 4 俄歇电子谱( AES )(第24頁)
    • §1 . 5 光电子谱( PES )(第32頁)
    • §1 . 6 场发射显微镜( FEM )和场离子显微镜( FIM )(第46頁)
    • §1 . 7 扫描隧道显微镜( STM )(第51頁)
    • §1 . 8 其他能谱技术(第56頁)
    • 参考文献(第58頁)
  • 第二章 化学吸附的量子理论基础(第59頁)
    • §2 . 1 表面态理论概述(第59頁)
    • §2 . 2 理想简单金属表面电子结构(第60頁)
    • §2 . 3 理想半导体的表面态(第67頁)
    • §2 . 4 密度泛函理论简述(第80頁)
    • 参考文献(第83頁)
  • 第三章 不同衬底表面的化学吸附简述(第84頁)
    • §3 . 1 小分子在胶体(简单金属)表面的化学吸附(第84頁)
    • §3 . 2 半导体表面的化学吸附(第91頁)
    • §3 . 3 d 能带金属表面的化学吸附(第99頁)
    • 参考文献(第113頁)
  • 第四章 化学吸附系统模型的建立(第116頁)
    • §4 . 1 Hatree-Fock 近似(第116頁)
    • §4 . 2 格林函数方法简述(第121頁)
    • §4 . 3 两种常见的数学处理(第126頁)
    • §4 . 4 纽恩斯安德森( Newns-Anderson )化学吸附模型(第129頁)
    • §4 . 5 爱因斯坦施里弗( Einstein-Schrieffer )化学吸附模型(第136頁)
    • §4 . 6 戴维森( Davison )化学吸附模型(第147頁)
    • 参考文献(第153頁)
  • 第五章 数学方法和计算机模拟手段(第155頁)
    • §5 . 1 虚拟晶体近似( VCA )(第155頁)
    • §5 . 2 平均 T 矩阵近似( ATA )(第158頁)
    • §5 . 3 相干势近似( CPA )(第160頁)
    • §5 . 4 连分数方法( CFT )(第164頁)
    • §5 . 5 计算机模拟的簇原子模型方法(第167頁)
    • 参考文献(第172頁)
  • 第六章 化学吸附理论的应用(第174頁)
    • §6 . 1 过渡金属原子在衬底表面的化学吸附(第174頁)
    • §6 . 2 无序合金表面的化学吸附(第184頁)
    • §6 . 3 杂质对化学吸附的影响(第198頁)
    • §6 . 4 载体催化剂表面的化学吸附(第208頁)
    • §6 . 5 计算机模拟方法在化学吸附中的应用(第215頁)
    • 参考文献(第222頁)
紙本書 NT$ 270
單本電子書
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