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  • 2020主要國家專利趨勢觀測分析
  • 點閱:33
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  • 作者: 葉席吟,王惠瑜 著
  • 出版社:國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
  • 出版年:2021
  • EISBN:9789576193132 PDF
  • 格式:PDF,JPG
  • 頁數:76

本研究目的在於,透過對專利相關資料的分析與加值,比較主要國家的技術發展情況,及其對經濟成長之影響,進而找出台灣之國際定位、優勢和機會,形塑對國家提升國際科技競爭力有所助益之政策建議。本研究的各項分析將有助於讀者瞭解國際情勢的變化,同時對我國科技政策的制定帶來助益。

葉席吟、王惠瑜

  • 中文摘要(第II頁)
  • Abstract(第III頁)
  • 執行摘要(第IV頁)
  • 目錄(第VIII頁)
  • 第一章、前言(第1頁)
    • 1.1 研究動機與目的(第1頁)
    • 1.2 資料處理與研究方法(第2頁)
  • 第二章、主要國家專利能量表現分析(第4頁)
    • 2.1 主要國家USPTO獲准專利資料表現(第4頁)
    • 2.2 主要國家USPTO專利趨勢與總體指標(第8頁)
    • 2.3 主要國家專利影響力分析(第10頁)
    • 2.4 2019年主要國家優勢技術領域分析(第15頁)
    • 2.5 政府機構之技術投入分析(第31頁)
  • 第三章、專利跨國合作能量分析(第34頁)
    • 3.1 跨國合作專利能量(第34頁)
    • 3.2 知識流動專利能量(第43頁)
    • 3.3 台灣跨國合作專利能量(第49頁)
  • 第四章、結論與建議(第56頁)
    • 4.1 研究結論(第56頁)
    • 4.2 研究建議(第59頁)
  • 參考文獻(第60頁)
  • 作者介紹(第61頁)
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