顏登通

• 第1章 潔淨室與空調(第1-1頁)
  • 1-1 前言(第1-1頁)
  • 1-2 潔淨室定義與發展史(第1-6頁)
  • 1-3 潔淨室標準與規格(第1-10頁)
  • 1-4 潔淨室適用範圍(第1-26頁)
  • 1-5 潔淨室分類(第1-38頁)
  • 1-6 潔淨室內空氣流分析(第1-54頁)
  • 1-7 不同障礙物對氣流之影響(第1-61頁)
  • 1-8 潔淨室設計規劃(第1-65頁)
  • 1-9 潔淨室震動、靜電、噪音、電磁干擾之防制(第1-77頁)
  • 1-10 潔淨室空調設計(第1-93頁)
  • 1-11 潔淨室建造、組裝材及程序(第1-113頁)
  • 1-12 潔淨室測試與驗收(第1-155頁)
  • 1-13 潔淨室運轉與維護管理(第1-167頁)
  • 1-14 潔淨室自動化系統(第1-211頁)
  • 1-15 潔淨室建造成本分析(第1-215頁)
• 第2章 超純水處理(第2-1頁)
  • 2-1 前言(第2-1頁)
  • 2-2 超純水之製造(第2-12頁)
  • 2-3 高科技產業用超純水(第2-24頁)
• 第3章 中央式化學品供應系統(第3-1頁)
  • 3-1 前言(第3-1頁)
  • 3-2 化學品供應需求要素(第3-2頁)
  • 3-3 化學品供應種類(第3-2頁)
  • 3-4 化學品供應系統之架構與作用原理(第3-6頁)
  • 3-5 化學晶配管與安全考量(第3-12頁)
  • 3-6 結論(第3-14頁)
• 第4章 中央式氣體供應系統(第4-1頁)
  • 4-1 前言(第4-1頁)
  • 4-2 光電廠和半導體廠所使用之氣體(第4-2頁)
  • 4-3 氣體的規範(第4-5頁)
  • 4-4 中央式氣體供應架構(第4-6頁)
  • 4-5 供氣系統的安全技術(第4-13頁)
  • 4-6 氣體的供應輸送(第4-15頁)
  • 4-7 氣體供應的規劃與設計(第4-18頁)
• 第5章 廢水處理及回收(第5-1頁)
  • 5-1 前言(第5-1頁)
  • 5-2 排放標準(第5-2頁)
  • 5-3 廢水種類(第5-5頁)
  • 5-4 廢水處理系統介紹(第5-6頁)
  • 5-5 廢水處理之規劃設計運轉(第5-14頁)
第6章 電力供應與中央監控(第6-1頁)
• 6-1 前言(第6-1頁)
• 6-2 電力供應系統組成(第6-2頁)
• 6-3 受電供電設備(第6-4頁)
• 6-4 建廠電力系統規劃(第6-6頁)
• 6-5 電力供應系統設備運轉管理(第6-24頁)
• 6-6 廠務中央監控系統(第6-26頁)
第7章 廠務設施架構(第7-1頁)
• 7-1 前言(第7-1頁)
• 7-2 冰水及冷凝冷卻水(第7-1頁)
• 7-3 熱水、蒸氣與柴油、瓦斯供應系統(第7-3頁)
• 7-4 製程冷卻水(第7-5頁)
• 7-5 乾燥壓縮空氣／呼吸用空氣(第7-6頁)
• 7-6 製程真空和清潔用真空系統(第7-8頁)
第8章 環境保護與工業安全組護(第8-1頁)
• 8-1 前言(第8-1頁)
• 8-2 環保與工安之功能目的(第8-2頁)
• 8-3 半導體與光電廠廢氣處理規劃(第8-2頁)
• 8-4 廢氣種類與排放標準(第8-4頁)
• 8-5 廢氣處理方式(第8-5頁)
• 8-6 廢棄物處理與減廢(第8-18頁)
• 8-7 有關環保相關申請文件及流程(第8-40頁)
• 8-8 工業安全與衛生維護(第8-51頁)
第9章 管路設計及空間佈置規劃(第9-1頁)
• 9-1 前言(第9-1頁)
• 9-2 管路材質選用(第9-2頁)
• 9-3 氣體管路配管(第9-4頁)
• 9-4 管路標示(第9-14頁)
• 9-5 管路設計規劃(第9-17頁)
• 9-6 管路之空間佈置(第9-21頁)
第10章 建廠設計評估及施工監造管理(第10-1頁)
• 10-1 前言(第10-1頁)
• 10-2 建廠工程規劃(第10-2頁)
• 10-3 建廠工程設計及施工執行流程(第10-5頁)
第11章 風險評估管理計劃(第11-1頁)
• 11-1 前言(第11-1頁)
• 11-2 風險管理四要素(第11-2頁)
• 11-3 風險評估程序(第11-5頁)
• 11-4 損害防阻執行(第11-6頁)
• 11-5 災害復原計量(第11-9頁)
第12章 高科技廠建廠及運轉成本分析(第12-1頁)
• 12-1 前言(第12-1頁)
• 12-2 建廠時程(第12-2頁)
• 12-3 建廠成本分析(第12-3頁)
• 12-4 廠務系統用量分析(第12-7頁)
第13章 結語(第13-1頁)
附錄 簡稱字彙彙總(第附-1頁)