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  • 主要國家專利維護趨勢觀測與專利維護評估指標
  • 點閱:21
  • 作者: 李森堙等著
  • 出版社:國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
  • 出版年:2017[民106]
  • ISBN:978-957-619-207-4 ; 957-619-207-2
  • 格式:PDF
  • 版次:初版
  • 附註:STPI-D-E-IA-105-2

【內容簡介】
 
本研究希望透過專利維護分析,歸納各國專利維護之趨勢,同時檢測技術領域之間的差異,以取得目前主要國家專利維護上的狀態趨勢,並針對專利維護的影響因素進行分析,將有助於相關議題的發展與擴充。

  • 中文摘要(第I頁)
  • Abstract(第II頁)
  • 執行摘要(第III頁)
  • 第一章 前言(第1頁)
    • 1.1 研究動機與目的(第1頁)
    • 1.2 研究資料與流程(第2頁)
    • 1.3 章節說明(第3頁)
  • 第二章 主要國家專利維護趨勢觀測(第4頁)
    • 2.1 專利維護的趨勢與分布(第4頁)
    • 2.2 專利維護技術領域分析(第5頁)
    • 2.3 各國專利維護率比較(第8頁)
    • 2.4 專利權人規模與維護率(第16頁)
    • 2.5 專利影響力與維護率(第24頁)
  • 第三章 專利維護評估指標分析(第26頁)
    • 3.1 主要國家專利維護率探討(第26頁)
    • 3.2 專利品質變數與專利維護表現(第28頁)
    • 3.3 專利維護危險因子分析(第32頁)
  • 第四章 主要國家專利維護率相對優勢(第37頁)
    • 4.1 各國技術領域維護率相對優勢(第37頁)
    • 4.2 專利維護技術領域組合分析(第52頁)
    • 4.3 我國專利維護率相對優勢分布(第68頁)
  • 第五章 結論(第70頁)
    • 5.1 研究結論(第70頁)
    • 5.2 後續研究方向與建議(第73頁)
  • 參考文獻(第74頁)
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